PCVD: Deposizione di vapore chimico al plasma
Cosa significa PCVD? Deposizione di vapore chimico al plasma è uno dei suoi significati. Puoi scaricare l'immagine qui sotto per stamparla o condividerla con i tuoi amici tramite Twitter, Facebook, Google o Pinterest. Se sei un webmaster o un blogger, sentiti libero di pubblicare l'immagine sul tuo sito web. PCVD potrebbe avere altre definizioni. Si prega di scorrere verso il basso per vedere le sue definizioni in inglese e altri cinque significati nella tua lingua.
PCVD sta per Deposizione di vapore chimico al plasma
L'immagine seguente presenta una delle definizioni di PCVD in inglese.Puoi scaricare il file immagine in formato PNG per l'uso offline o inviare l'immagine della definizione PCVD ai tuoi amici via email.

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Altri significati di PCVD
Come accennato in precedenza, l'PCVD ha altri significati. Si prega di sapere che cinque degli altri significati sono elencati di seguito.È possibile fare clic sui collegamenti a sinistra per visualizzare informazioni dettagliate su ciascuna definizione, comprese le definizioni in inglese e nella lingua locale.
Definizione in inglese: Plasma Chemical Vapor Deposition
Si prega di essere informati che alcuni dei nostri acronimi e le loro definizioni sono creati dai nostri visitatori. Pertanto, il tuo suggerimento di nuovi acronimi è il benvenuto! Come ritorno, abbiamo tradotto l'acronimo di PCVD in spagnolo, francese, cinese, portoghese, russo, ecc. È possibile scorrere ulteriormente verso il basso e fare clic sul menu della lingua per trovare i significati di PCVD in altre 42 lingue.
In inglese, PCVD sta per Plasma Chemical Vapor Deposition. Nella tua lingua locale, PCVD sta per Deposizione di vapore chimico al plasma. Di seguito sono riportati i vantaggi e gli svantaggi dell'utilizzo di questo acronimo.
L'utilizzo di PCVD come abbreviazione migliora la comunicazione fornendo un metodo conciso ed efficiente, risparmiando tempo e spazio. Questa pratica trasmette anche un senso di professionalità e specializzazione in campi particolari. L'utilizzo dell'abbreviazione Deposizione di vapore chimico al plasma funge da dispositivo mnemonico e garantisce l'uniformità nei documenti ufficiali.
A causa delle varie interpretazioni di PCVD, questo acronimo può causare ambiguità e confusione, soprattutto tra il pubblico che non ha familiarità con il suo significato. Inoltre, l'uso frequente di Deposizione di vapore chimico al plasma può favorire un senso di esclusività, possibilmente alienando gli individui che non hanno familiarità con la terminologia. L’uso eccessivo di tali acronimi può in definitiva ridurre la chiarezza generale.